苹果将为iPhone采用屏下Touch ID和Face ID的消息已经不是第一次听到了。最近，苹果通过美国专利商标局获得了一项新专利，可以用于屏下Face ID和Touch ID未来有望能看到苹果能发布没有刘海屏的真全面屏。
　　专利文档显示，苹果考虑将TouchID和Face ID深度集成到屏幕内。
　　光学成像阵列位于屏幕后面，可定向接收通过屏幕传来的光线，与屏幕发光的方向相反。
　　介绍中提到的光学成像阵列，适用于成像、感测或数据聚合等，包括但不限于环境光感测、近距、深度感应、结构光、光通信、生物特征成像（例如指纹成像、虹膜成像、面部识别等）。
　　这项专利意味着，屏幕可能会有一部分＂通过不透明的背板定义的成像孔＂，苹果称之为“光圈”。
　　为了能够正常使用Touch ID和Face ID，这块“光圈”区域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。
　　还有一种可能，就是在使用Touch ID和Face ID时，这块“光圈”区域的像素才会降低，在不使用时，像素密度和其它区域一致。
　　在这份14000字的专利报告中，苹果还提及了此专利也可用于MacBook上。
　　不过，苹果已经拥有不少屏下Touch ID和Face ID识别专利，将来会采用哪一种尚未可知。
　　苹果计划于今年9月24日发布新iPhone，依然会采用刘海屏和Face ID单生物识别方案，短期内是看不到同时采用Touch ID和Face ID识别方案的新机发布了，不过有消息称iPhone SE 3 Plus可能会采用电源指纹识别方案。
　　【 来源：快科技】【作者：随心】

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