做为国内最大也是最先进的半导体制造公司,中芯国际在先进工艺上的进展引人关注,其中 7nm 及以下节点非常重要,这还牵涉到 EUV 光刻机。 日前有股民在互动平台上询问,称有报道指出中芯国际不用 EUV 光刻就攻克了类 7nm 工艺,要求中芯国际澄清。 对此,中芯国际表示,公司不针对传言进行评论。 从中芯国际官网的介绍来看,该公司提到的最先进工艺还是 14nm ,接下来的是 N+1 、 N+2 工艺,但没有指明具体的工艺节点。 中芯国际联合 CEO 赵海军曾表示,经过三年的积累, FinFET 工艺已经取得了不错的成绩, N+1 已经进入了风险量产,但是在外部因素的影响下,去年四季度起 FinFET 的产能利用率不足,爬坡需要时间,营收奉献尚未达到预期水准,折旧又对公司整体的盈利造成了负担。 【来源:快科技】【作者:宪瑞】