过去几年中  Intel   在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星，一个重要原因就是没有及时跟进  EUV   工艺，让两家对手抢先量产了  7nm   、  5nm   等工艺，不过  Intel   这一年来变化很大，也对  EUV   光刻工艺上心了，加速推进新工艺量产。
　　Anandtech   网站的核心编辑日前受邀参观了  Intel   在俄勒冈州的  D1X   工厂，   他表示在那里看到了一些  EUV   生产设备，不过具体有多少就不能说了，显然这是  Intel   的商业机密，不能对外透露。
　　1   月底，  Intel   宣布了一批  EUV   设备进厂，不过当时进场安装的是欧洲爱尔兰的  Fab 34   晶圆厂，那是一台光刻胶显影设备  (lithography resist track)   ，将与  EUV   极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶圆覆上精密的涂层，然后进入  EUV   扫描仪，进行曝光，接着晶圆回到光刻设备，再进行一系列的高精密光显影、清理操作。
　　爱尔兰的  Fab 34   晶圆厂未来会量产  Intel 4   工艺，也就是之前的  7nm   工艺，这是  Intel   首个使用  EUV   光刻机的工艺，  2023   年的  14   代酷睿  Metor Lake   处理器会首发该工艺。
　　不过  Intel   在  EUV   光刻机上的野心很大，重点会放在下一代  EUV   光刻机上，  已经抢先订购了  NA 0.55   高数值孔径  EUV   光刻机，据说成本高达  3   亿美元，约合  19   亿元。
　　相比目前  NA 0.33   的  EUV   光刻机，  Intel   购买的新一代光刻机可以量产更先进的  CPU   工艺，未来的  20A   、  18A   工艺都会用上，最快  2025   年量产。
　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】

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