Intel四年前抢购下一代EUV光刻机新工艺不落后
昨天全球最大的光刻机供应商 ASML 发布了 2021 年 Q4 及全年财报,去年营收 186.11 亿欧元,较上一财年增长 33% ,净利润也从 35.54 亿欧元涨至 58.83 亿欧元,全年出货 42 套 EUV 光刻机,比上一年增加 11 套。
Q4 季度中, ASML 公司还新增了 71 亿欧元的新订单, 其中就有一套 NA 0.55 高数值孔径 EUV 光刻机的销售 ,这是 ASML 下一代光刻机,订购这个光刻机的是 Intel ,据说成本高达 3 亿美元,约合 19 亿元。
要知道,在当前的 EUV 光刻机销售中,台积电及三星都是大客户,订单量远高于 Intel , 但在下一代 EUV 光刻机中 Intel 拿到了独占权,有一定的抢先期,早在 2018 年就下第一台。
在当前 NA 0.33 的 EUV 光刻机中, Intel 动作慢了,被台积电、三星抢先, Intel 的 EUV 工艺芯片量产要到 2023 年的 14 代酷睿 Metor Lake 上。
在下一代 NA 0.55 的 EUV 光刻工艺中, Intel 不允许同样的错误再次发生,这一次要抢先三星台积电下单,也会抢先量产 20A 及 18A 工艺,首次进入埃米级工艺节点。
基于此, 4 年来 Intel 实际上已经下单了 6 ̨ NA 0.55 的 EUV 光刻机, 其中分为两种, Twinscan Exe:5000 系列主要用于工艺研发,产能输出是 185WPH ,每小时生产 185 片晶圆, 2023 年上半年交付。量产型的 NA 0.55 光刻机是 Twinscan Exe:5200 ,产能提升到 200WPH ,每小时 200 片晶圆,预计会在 2024 年下线, Intel 的 20A 工艺正好是在 2024 年量产。
【来源:快科技】【作者:宪瑞】