基于对发明的正确理解进行审查
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摘 要：理解发明是审查的基础，直接影响到后续的检索和三性评判，本文结合具体案例，就如何基于对发明的正确理解进行审查，以提高审查效能进行探讨。
关键词：发明；检索；三性评判；审查
一、引言
发明专利的审查中通常需要先进行检索，然后在充分检索的基础上，给出审查意见。检索的一个重要目就是确认是否存在影响发明新颖性和创造性的文件，但在具体实践中，可能在理解发明[1]上出现偏差，无法准确把握权利要求的技术方案的实质的情形，从而影响后续的审查进程，导致审查周期延长。因此，有必要就如何基于对发明的正确理解进行检索和审查，以提高审查效能进行探讨，本文通过具体案例的方式加以说明。
二、案例分析
权利要求1的技术方案如下：
一种用于通信基站的防雷击光电复合缆，包含有缆芯、内护套、铠装层、外护套、接地层、连接筋、吊线、吊线护层、光单元；缆芯是由多个电单元构成，每个电单元由导体及包覆住导体的绝缘层构成；光单元由松套管及位于松套管内的多根光导纤维构成；缆芯外包覆有第一保护层、内护套挤塑包覆在第一保护层之外，内护套外包覆有第二保护层，接地层位于第二保护层之外，铠装层包覆在接地层外，外护套挤塑包覆在铠装层之外；铠装层为单面覆膜钢带，铠装层与接地层接触的面为非覆膜面；第一保护层、第二保护层都为云母带；吊线护层包覆在吊线之外，连接筋一端连接吊线护层、另一端连接外护套；其特征在于吊线位于光单元之外，光单元、吊给都位于吊线护层中，吊线由多根加强件构成且所有加强件的外缘在同一圆柱面上；加强件围绕光单元分布且相邻的加强件是相切的或者加强件围绕光单元且相邻的加强件是不相切的，光单元的中心是与吊线护层的中心相重合。
第一次审查意见通知书中引用了两篇对比文件：对比文件
1（CN103325489A）、对比文件2（＂光缆架空方式及结构强度＂，王则民，电信科学，第5期，第41-46页，1991年5月）。第一次审查意见认为对比文件1公开了光纤和电缆均设置在缆芯中，对比文件2公开了光纤设置在吊线中，对比文件2给出了与对比文件1结合的启示，从而权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。申请人在答复第一次审查意见通知书时认为，对比文件2公开的实际上是一种中心束管式光缆，并未给出与对比文件1结合的启示。
基于申请人的陈述，对发明进行分析发现，发明面对的技术问题是：一般地，光纤和电缆均设置在缆芯中构成通信基站光电复合缆，在遭受雷击时，内护套可能被击穿，缆芯内电单元由于过载或雷击时，极易达到或超过光纤的储存、工作环境温度，导致光纤损坏。为此，如图1所示，本发明将光纤与导体分开设置，即电单元设置在缆芯中，而光单元设置在吊线中。
基于以上分析可知，发明的整体构思是将电单元和光单元分开设置，因此，权利要求1中电單元设置在缆芯中，而光单元设置在吊线中共同构成了实现发明构思的关键技术手段，因此在考虑权利要求1的技术方案时，不能孤立地看待有关电单元和光单元位置的技术特征，将二者拆分。如果存在可用于否定发明新颖性和/或创造性的现有技术，必然需要满足在一个技术方案中同时公开了电单元和光单元分开设置的技术方案。虽然权利要求1在撰写形式上也是将电单元和光单元作为两个部分分别进行限定，但其技术方案应从整体上考虑，不能忽略二者之间的内在联系。从对比文件1公开的内容来看，其同时涉及光纤和电缆，但光纤和电缆设置在同一缆芯中，与发明的背景技术相同，以对比文件1为起点正向还原发明与从背景技术得到发明需要克服的技术障碍是相同的。
第一审查意见中认为对比文件1公开了光纤和电缆均设置在缆芯中，对比文件2公开了光纤设置在吊线中，从而认为可以由对比文件2得到启示，将光纤设置在吊线中，得到权利要求1的技术方案，但将光纤设置在吊线中与将光纤和电缆分开设置有本质上的区别，对比文件2公开了光纤设置在吊线中，但并不能得到在缆芯中不设置光纤，即光纤和电缆分开设置的启示，上述审查过程未正确理解发明上，继而在检索中孤立地考虑电单元和光单元，在创造性的判断上也出现偏差，最终在第一次审查意见通知书中得出不恰当的结论，导致审查周期的延长。
在对发明进行深入理解之后，通过对检索思路进行调整，重点关注现有技术中是否存在电单元设置在电缆中，而光单元设置在吊线中的技术方案，很快得到对比文件3（CN201247652Y），其公开了上述内容并给出了与对比文件1结合的技术启示，由此发出第二次审查意见通知书。如果第一次审查意见通知书中就使用对比文件1与对比文件3结合给出审查意见，便能减少一次审查意见通知书，节约审查程序，缩短审查周期。
三、总结
在发明专利的审查中，不能仅仅从权利要求的撰写形式机械地理解其技术方案，进而通过将现有技术的技术特征拼凑在一起来否定发明的创造性，而是应在正确理解发明基础上，从整体上把握权利要求中各个技术特征之间的内在联系，进而进行检索和三性评判，由此提升审查效能。
参考文献：
[1]中华人民共和国国家知识产权局.专利审查指南.北京：知识产权出版社，2010.